米兰体育免费下载app:中唯精细请求因瓦合金掩膜板等离子纳米抛光减薄体系及办法专利提高外表平整度与环保性

  国家知识产权局信息数据显现，中唯精细工业有限公司请求一项名为“一种因瓦合金掩膜板等离子纳米抛光减薄体系及减薄办法”的专利，公开号CN121290174A，请求日期为2025年12月。

  专利摘要显现，本发明触及一种因瓦合金掩膜板等离子纳米抛光减薄体系及减薄办法，该体系包含水槽（2），水槽（2）内装有抛光液（3）和因瓦合金掩膜板（4），因瓦合金掩膜板（4）经过升降体系操控器（5）和升降设备（6）操控其在水槽（2）内的深度；抛光液（3）包含主盐、辅盐和水，所述主盐包含（发生等离子体的导电电解质）柠檬酸钾1%～2%、硝酸钾1%～2%；所述辅盐包含缓冲剂、增稠剂、保护剂和光亮剂。本发明经过专用抛光液配方与优化工艺的协同效果，完成超薄因瓦合金掩膜板的高效、均匀减薄与纳米级抛光，在确保金属本性光泽、防止烧边与盐分残留的一起，提高外表平整度与环保性，满意掩膜板的高精度运用要求。

  天眼查资料显现，中唯精细工业有限公司，成立于2019年，坐落天津市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本5752.1785万人民币。经过天眼查大数据分析，中唯精细工业有限公司共对外出资了6家企业，参加招投标项目9次，产业线条，此外企业还具有行政许可7个。

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